- Nyhet

ART OF SKIN FOUNDATION STICK - Foundation - nw42
329,00 krinkl. mva.
10 g (3 290 kr / 100 g)
Leveranse
Solgt og sendt av
Standardforsendelse
49,00 kr
Returer
Om produktet
Langvarig
Gir fylde
Naturlig finish
Art of Skin Foundation Stick er en kremaktig, høytytende stift-foundation som blender jevnt og fester seg som en andre hud. Formelen inneholder høymolekylær hyaluronsyre og botanisk Tabebuia-ekstrakt, som hjelper til med å fukte huden og skape et glatt, jevnt utseende.
Bruk en børste for høy dekning og en utjevnende effekt, bland i sirkulære bevegelser og dapp for å avslutte. Bruk en svamp for et mykt, naturlig resultat, bland forsiktig for en andre-hud effekt. Påfør med fingre for en rask, sensorisk påføring, ved å bruke varmen fra fingertuppene for å hjelpe produktet å blande seg. For å maksimere effekten kan du først påføre stiften på håndbaken og plukke den opp derfra.
Stiftformatet er praktisk for touch-ups på farten og lar deg oppfriske basen din gjennom dagen. Bruk en mørkere nyanse for å tilføre dimensjon og definere konturene i ansiktet, eller en lysere nyanse som en myk highlighter på de sentrale områdene. Stiften kan også brukes som en målrettet concealer for ufullkommenheter eller misfarging.
Alle ingredienser
- Ingredienser:
- OCTYLDODECANOL, DIPENTAERYTHRITYL TETRAHYDROXYSTEARATE/TETRAISOSTEARATE, CAPRYLIC/CAPRIC TRIGLYCERIDE, SYNTHETIC WAX, POLYBUTENE, HYDROGENATED DILINOLEYL ALCOHOL, SHOREA ROBUSTA RESIN, BRASSICA CAMPESTRIS (RAPESEED) SEED OIL, ORYZA SATIVA (RICE) BRAN WAX, THEOBROMA CACAO (COCOA) SEED BUTTER, POLYGLYCERYL-2 ISOSTEARATE/DIMER DILINOLEATE COPOLYMER, SILICA, PENTAERYTHRITYL TETRAISOSTEARATE, KAOLIN, SYNTHETIC BEESWAX, SODIUM HYALURONATE, TABEBUIA IMPETIGINOSA BARK EXTRACT, POLYHYDROXYSTEARIC ACID, DISTEARDIMONIUM HECTORITE, TRIETHOXYCAPRYLYLSILANE, TOCOPHERYL ACETATE, POLYGLYCERYL-3 DIISOSTEARATE, PENTAERYTHRITYL TETRA-DI-T-BUTYL HYDROXYHYDROCINNAMATE, DICALCIUM PHOSPHATE. +/− (MAY CONTAIN / PEUT CONTENIR): CI 77891 (TITANIUM DIOXIDE), CI 77491 - CI 77492 - CI 77499 (IRON OXIDES).
NA



















